
一、品名
高纯钽板:纯度≥99.95%,广泛应用于真空炉发热部件及耐蚀容器;
钽钨合金板:添加2.5%-10%钨,提升高温强度及抗蠕变性能,适配航天发动机喷管衬套;
功能型钽箔:厚度≤0.1mm,表面精度Ra≤0.8μm,用于半导体溅射靶材。
二、牌号
国内牌号:Ta1/Ta2、Ta2.5W、TaNb3;
国际牌号:RO5200/RO5400、R05252
三、执行标准
国际标准:ASTM B708-92、ASTM B365-98;
国内标准:、GB/T 3269-83、GB/T 26012-2010;
四、规格
厚度:0.1mm(箔材)至50mm(厚板);
宽度:50-600mm,溅射靶材(≤300mm);
密度:≥16.6g/cm³(轧制态≥16.5g/cm³);
五、工艺
熔炼提纯:
真空电子束熔炼(EBM)或粉末冶金烧结,杂质总量≤0.05%;
轧制成型:
热轧→冷轧,厚度公差±0.01mm;
表面处理:
电解抛光(Ra≤0.4μm)或碱洗(去除氧化层),适配高洁净场景;
质量控制:
超声波探伤(内部缺陷检测)与金相组织分析(晶粒度≥6级)。
六、用途
高温工业:真空炉发热体、稀土熔炼坩埚;
化学工程:盐酸反应器衬板、硫酸蒸发器;
半导体制造:晶圆镀膜溅射靶材、等离子刻蚀电极;
七、分类
1. 按纯度分类
冶金钽板(99.0%Ta):用于化工设备耐蚀衬里;
高纯钽板(99.95%Ta):适配真空高温设备及电子工业;
超高纯钽板(99.99%Ta):溅射靶材专用;
2. 按合金类型分类
钨钽合金板:Ta2.5W/Ta10W,高温强度提升30%,用于航天发动机;
铌钽合金板:TaNb3/TaNb20,抗氧脆特性适配高压电容器;
3. 按形态分类
轧制板材:常规工业应用,厚度公差±5%;
精密箔材:厚度≤0.1mm,用于柔性电路及微型器件。