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  • 一、工业制造领域‌1、PVD镀膜技术‌钛靶合金作为物理气相沉积(PVD)的核心材料,通过溅射或蒸发工艺生成高纯度钛薄膜,广泛应用于半导体芯片导电层、光学镜面涂层及硬质刀具表面强化;环形钛靶设计适配旋转磁控溅射设备,薄膜均匀性提升20%-30%,显著降低半导体器件的电阻率。2、显示与光学器件‌高纯度钛...
  • 一、铌加工件的材料与预处理控制1、应力消除退火‌加工前对铌坯料进行退火处理,释放内部残余应力,减少后续变形风险。2、表面涂层处理‌加工高温防护涂层的铌工件时,需先去除涂层再加工焊接面,避免涂层损伤导致尺寸偏差。二、加工设备优化1、高精度机床选型‌选用导轨直线度误差0.005mm/m、主轴径向跳动0....
  • 钨加工件涉及多种工艺与技术以应对其高熔点、高硬度、低温脆性等特性,核心流程包括基础成型、精密加工及表面强化等工艺。一、基础成型工艺‌1、粉末冶金‌原料制备‌:采用纯度99.95%的钨粉,通过球磨筛分并添加镍、铁等合金元素混合,确保粒度在5-10μm以优化成形性 。成形技术‌:等静压成型(CIP)‌:...
  • 一、装夹技术创新1、柔性工装设计‌采用模块化液压组合夹具,通过多基准定位槽实现钛异形件自适应夹持,夹紧力可无级调节,压力波动0.5%。对复杂曲面使用液胀夹具或仿形软爪,提升接触面积。2、应力分散策略‌粗加工阶段采用开缝套筒夹持,增大接触面积达70%以上;精加工切换为扇形软卡爪,夹紧力下降40%~50...
  • 一、 ‌半导体与先进电子制造‌2nm芯片制造‌:全球首台钼原子层沉积设备实现1纳米级钼导线铺设,较传统钨工艺效率提升8倍,推动3D NAND闪存成本下降30%。散热基板材料‌:钼片因低热膨胀系数和高导热性,成为芯片散热核心材料,保障航天电子设备在极端温度下的稳定性。显示面板技术‌:钼溅射靶材用于OL...
  • 一、外观检查法1、颜色与光泽‌真镍板为银白色且表面光亮,若颜色暗淡、泛黄或发灰,可能是镀镍或其他金属假冒‌。2、表面平整度‌真品表面光滑无氧化、锈蚀或明显划痕;劣质品可能凹凸不平或有颗粒感‌。3、厚度测量‌合格镍板厚度通常在 ‌0.03–0.08mm‌,若超出此范围需警惕‌。二、物理鉴别法1、刮削测...
  • 一、基础成型工艺‌1、剪切与轧制‌使用专业剪切机或工具将钛板裁剪至目标尺寸,误差控制在0.5mm内;通过机械轧机进行冷轧或热轧:热轧‌:板坯经步进式加热炉加热后,通过粗轧机与精轧机逐步减薄至目标厚度,表面需高压水除鳞以清除氧化皮;冷轧‌:基于热轧板材进行多道次轧制,尺寸精度更高,适用于高精度零部件制...
  • 一、‌耐腐蚀性与环境适应性‌1、酸性环境‌锆板在浓硫酸、盐酸中年腐蚀速率<0.01mm,优于钛板‌。钛板在硝酸、海水等氧化性介质中稳定性更高。2、高温性能‌锆板耐温上限300℃,钛合金板可耐受450-600℃高温‌。锆板在核反应堆中抗辐照性能更优。3、低温性能‌钛板在-253℃超低温下仍保持韧性,优...